單面/雙面掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)支持各種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，如真空，硬，軟接觸和接近式曝光模式，可選擇背部對準(zhǔn)方式。此外，該系統(tǒng)還提供其他功能，包括鍵合對準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速處理和重新加工，以滿足不斷變化的用戶需求，轉(zhuǎn)換時(shí)間不到幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶概念適合初學(xué)者到專家級(jí)各個(gè)階層用戶，非常適合大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用。
EVG單面/雙面掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)特征：
1、晶圓/基片尺寸從零碎片到200毫米/ 8英寸。
2、臺(tái)式或獨(dú)立式帶防振花崗巖臺(tái)面。
3、敏捷的處理和轉(zhuǎn)換重新加工。
4、分步流程指引。
5、遠(yuǎn)程技術(shù)支持。
6、頂部和底部對準(zhǔn)功能。
7、高精度對準(zhǔn)。
8、自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列。
9、電動(dòng)的和程序控制的曝光間隙。
10、支持先進(jìn)的UV-LED技術(shù)。
11、小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求。
12、多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同語言）。
